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打造半导体制造设备领军企业 拓荆科技今日科创板上市
发布日期:2022-05-25 05:09   来源:未知   阅读:

  薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备3个产品系列,是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SA

  拓荆科技是国内设备行业重要的领军企业之一,3次获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号,产品已成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微电子等行业领先集成电路制造企业生产线,产品技术参数已达到国际同类设备水平,并已展开10nm(纳米)及以下制程产品验证测试香港6合宝典图库资料,据悉,拓荆科技将借登陆科创板重要契机,进一步提升科技研发能力,提高产品性能和技术水平,不断做强主业,将公司打造成半导体制造薄膜沉积设备领军企业。

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